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離子鍍膜機的離子鍍相比蒸發(fā)鍍和濺射鍍的優(yōu)點

   目前,在真空鍍膜領(lǐng)域,較為常見的有離子鍍、蒸發(fā)鍍和濺射鍍?nèi)N鍍膜方法。今天,就由鍍膜機廠家給大家講解下離子鍍相較蒸發(fā)鍍和濺射鍍的特點。
    1、附著能力強、鍍層不易脫落。用離子鍍膜機進行離子鍍時,基材的表面受到離子的轟擊,不斷被清洗,提高了基片表面的附著力。同時,濺射也提高了基片表面的粗糙度。還有一個原因是離子轟擊基材時攜帶的動能在基片表面轉(zhuǎn)化成了熱能,產(chǎn)生自加熱效應(yīng),提高了基片表面的層組織的結(jié)晶性能,促進化學(xué)反應(yīng)和擴散作用。
    2、繞射性好。在高壓強下,膜材被電離,電離出的離子或分子在到達基片的過程中被數(shù)次碰撞,最后濺射到基片的周圍。然后在電場的作用下沉積在負面=偏壓的基片上。
    3、鍍層質(zhì)量高。在沉積過程中不斷受到陽離子的轟擊,使得膜層更致密。
    4、可鍍材料范圍廣。
    5、沉積速率高,成膜快,可鍍制厚膜。

CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機

離子鍍膜機的真空鍍膜和水電鍍的區(qū)別


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